Rôle de l'appareil
Analyse chimique de la surface (qualitative et quantitative).
Permet l’étude des liaisons chimiques et de la structure électronique du matériau
Spécifications techniques
• Source polychromatique double :
- Aluminium Kα1,2 (hν = 1486.6eV)
- Magnésium Kα1,2 (hν = 1253.6eV)
→ resolution for the Ag3d5/2 peak = 1.0eV
• Aluminium monochromatic source Kα1,2 (hν = 1486.6eV)
→ resolution for the Ag3d5/2 peak = 0.6eV
• Lentille magnétique XL
• Compensation de la charge pour le échantillons non-conducteurs
• Décapage ionique par faisceau d’Argon dans la chambre principale (0.1 à 10keV), taux de décapage de 0.1 à 3 nm/min
• Systèmes à vide :
- chambre d’analyse : 10-10 mbar
- chambre de préparation : 10-9 mbar
Accessoires
• Chambre intermédiaire de préparation
• Couplage éventuel avec une cellule électrochimique pour des mesures XPS in-situ
• Source UV pour mesure UPS
Exemples de procédés et de services disponibles
• Analyse angulaire (ARXPS)
• Imagerie XPS (résolution <10 µm)
• Profil en profondeur de la concentration des éléments
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