Le Heidelberg DWL 66FS est un outil de lithographie laser capable de définir et de positionner des motifs de l’ordre du micromètre.
• Résolution: 0.8 µm ligne isolée, 1 µm lignes denses
• Précision d’alignement: selon la résolution: de 200 nm à 2000 nm
• Laser diode, longueur d’onde: 405 nm
• Vitesse d’écriture: selon la résolution: de 1 mm²/min à 290 mm²/min
• Formats acceptés: la plupart des formats standards sont acceptés tels GDSII, DXF, GERBER, CIF, etc…
• Lithographie 3D par niveaux de gris (32 tons)
• Écriture de photomasque sur chrome
• Écriture directe de structures photonique
