Rôle de l'appareil
La fournaise Tytan est utilisée pour divers traitements thermiques comme les diffusions, les oxydations sèches et humide de même que le dépôt de films mince comme le nitrure ou le polysilicium.
Spécifications techniques
• Tube 3: LPCVD avec SiH4, SiH2Cl2 ou NH3
• Tube 1: tube atmosphérique avec N2, O2, H2 et source liquide de Trans-LC
• Substrats: de petites pièces jusqu’aux gaufres de 150 mm
• Entrée et sortie automatique des substrats
• Recettes sauvegardées par ordinateur
• Température contrôlée à +/- 1ºC en trois zones (total 88 cm de long)
• Plage des température: 250ºC à 1275ºC
• Uniformité: meilleur que 5% sur 150 mm (1 sigma) pour tous les procédés
Accessoires
• Torche interne pour oxydation humide
Exemples de procédés et de services disponibles
• Dépôt de nitrure pour membrane
• Diffusion de zones dopées par implantation ionique
• Croissance d’oxyde sèche ou humide
• Croissance d’oxyde à basse température (450ºC)
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Tarif Académique | Industriel :
67 $/h | 145 $/h
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