Modèle : Tescan LYRA 3 XMH
Rôle de l'appareilFaisceau d’Ions Focalisé (FIF) intégré avec un Microscope Électronique à Balayage (MEB) pour la préparation des échantillons MET
Système d’injection de gaz pour dépôt de couches minces (GIS) isolantes ou conductrices
Caractérisation par spectroscopie d’énergie dispersive (SED)
Spécifications techniques- Optiques MEB • Canon d’électrons : - Émetteur Schottky à haute luminosité
- Tension d'accélération: 200 V à 30 kV
• Courant de sonde: 10 pA à 15 nA
• Résolution: en mode SE: 1.2 nm à 30 kV et 3.0 nm à 3 kV
en mode BSE: 2.0 nm à 30 kV
• Grossissement: 20x à 500,000x
- Optiques ioniques
• Canon d’ions : source de Galium liquide
• Résolution : < 5 nm à 30 kV / < 2.5 nm à 30 kV (au point de coïncidence MEB-FIB)
• Grossissement : 150x à 250,000x
• Angle entre MEB et FIB : 55°
• Tension d’accélération : 0.5 kV à 30 kV
Accessoires• SED : Quantax de Bruker (détecteur X-Flash 6160) pour l’analyse des éléments
• Système d’injection de gaz (5-GIS de Orsayphysics) équipé de 5 précurseurs pour déposer des couches minces
• Nanomanipulateur OmniProbe 200 d’Oxford Instrument
Exemples de procédés et de services disponibles• Préparation des échantillons pour le MET
• Observations par électrons secondaires (SEI) et en électrons rétrodiffusée (BSE)
• Détermination et quantification des éléments par SED
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Observation de nanoparticules d'Or par Microscopie Électronique à Balayage haute résolution sur le Tescan LYRA 3 XMH |
Contact : Patrick Soucy