> Lithographie par faisceau d'électrons VB6 UHR EWF

Rôle de l'appareil

 Le Vistec VB6 est un outil de lithographie par faisceau d’électrons capable de définir et de positionner des motifs avec une résolution de l’ordre du nanomètre.

Spécifications techniques

• Accélération: 100 keV
• Courant: 100 pA – 100 nA
• Taille des champs d'écriture: jusqu’à 1200 um
• Résolution: selon le procédé. Une résolution de 25 nm est routinière sans développement ultrasonique.
• Raccord de champs: < 40 nm selon la taille du champ.
• Vitesse du faisceau: 50 MHz
• Résolution de l’adresse: 20 bits
• Porte échantillon disponible:
- Gaufres: 50 mm, 75 mm, 100 mm, 125 mm, 150 mm.
- Photomasques: 125 mm, 150 mm, NIST X-RAY Holder
- Pièces: 1 cm et plus
• Ajustement automatique du focus durant l'écriture
• Plateau intelligent avec précision de placement de 0.6 nm

Accessoires

• CAD acceptant la plupart des formats standards tels GDSII, DXF, etc…
• Correction des effets de proximité

Exemples de procédés et de services disponibles

• Cristaux photonique
• Réseau de Bragg
• Prototype de photomasque
• Moule maître pour nano impression

Tarif Académique | Industriel :
150 $/h | 500 $/h