> Implanteur ionique IMC-200

Rôle de l'appareil

   L’implanteur ionique introduit de façon contrôlée de petite quantité d’ions dans la matrice de la cible choisie. Ces ions étrangers contribuent à des changements notables des propriétés de la cible, qu'elles soient électriques, mécaniques ou magnétiques.

Spécifications techniques

• Implanteur Varian CF3000 modifié
• Energie: 1 keV à 200 keV (400 keV pour double charge)
• Courant médium (jusqu’à 1 mA selon les espèces)
• Source: gaz, solide, liquides (Bernas ou Freeman)
• Porte échantillon:
- Taille des échantillons: 5mm à 150 mm
- Angle: 0 à 60 degrés (limite: échantillon de 100 mm)
- Température: -150 à 500ºC (limite: échantillon de 100 mm)

Accessoires

• Système cassette à cassette en gaufres de 100 mm
• Neutraliseur de charge (flood gun)

Exemples de procédés et de services disponibles

• Implantation de source et drain de transistor
• Implantation de silicium pour nano cristaux
• Traitement anti-buée (mouillage)
• Implantation de prothèse pour biocompatibilité
• Modification de ferroélectriques

Tarif Académique | Industriel :
95 $/h | 220 $/h