La fournaise Tytan est utilisée pour divers traitements thermiques comme les diffusions, les oxydations sèches et humide de même que le dépôt de films mince comme le nitrure ou le polysilicium.
• Tube 3: LPCVD avec SiH4, SiH2Cl2 ou NH3
• Tube 1: tube atmosphérique avec N2, O2, H2 et source liquide de Trans-LC
• Substrats: de petites pièces jusqu’aux gaufres de 150 mm
• Entrée et sortie automatique des substrats
• Recettes sauvegardées par ordinateur
• Température contrôlée à +/- 1ºC en trois zones (total 88 cm de long)
• Plage des température: 250ºC à 1275ºC
• Uniformité: meilleur que 5% sur 150 mm (1 sigma) pour tous les procédés
• Torche interne pour oxydation humide
• Dépôt de nitrure pour membrane
• Diffusion de zones dopées par implantation ionique
• Croissance d’oxyde sèche ou humide
• Croissance d’oxyde à basse température (450ºC)
