Le Plasmalab system 100 est un outils de gravure utilisant un plasma de haute densité configuré pour la gravure de GaAs, d’InP, de GaN, d’Al, de Cr et de matériaux similaires utilisés dans le fabrication de micro et nano dispositifs.
• Source plasma haute densité ICP de 380 mm (générateur 2MHz, 5kW)
• Électrode inférieure de 240 mm (13.56MHz, 600 W) avec
· accord d’impédance automatique et hauteur variable
• Refroidissement/Chauffage de l’électrode (-150° C à 400° C)
• Dispositif de serrage des échantillons et contact thermique à l’He
• Porte échantillon: de petits morceaux jusqu’aux gauffres de 200 mm
• Pression typique d’opération: 1- 100 mtorr
• Contrôlé sous Windows XP avec recettes programmables
• Gaz disponibles: Cl2, O2, SiCl4, CH4, He, SF6, H2, N2, Ar
• Chargement rapide des échantillons (loadlock)
• Système de détection de fin de gravure par interferometrie Laser
• Nettoyage automatisé de la chambre
• Gravure anisotrope de GaAs pour la fabrication de guides d’ondes optiques
• Gravure de photomasques utilisés pour la lithographie UV
