L’implanteur ionique introduit de façon contrôlée de petite quantité d’ions dans la matrice de la cible choisie. Ces ions étrangers contribuent à des changements notables des propriétés de la cible, qu’elles soient électriques, mécaniques ou magnétiques.
• Implanteur Varian CF3000 modifié
• Energie: 1 keV à 200 keV (400 keV pour double charge)
• Courant médium (jusqu’à 1 mA selon les espèces)
• Source: gaz, solide, liquides (Bernas ou Freeman)
• Porte échantillon:
– Taille des échantillons: 5mm à 150 mm
– Angle: 0 à 60 degrés (limite: échantillon de 100 mm)
– Température: -150 à 500ºC (limite: échantillon de 100 mm)
• Système cassette à cassette en gaufres de 100 mm
• Neutraliseur de charge (flood gun)
• Implantation de source et drain de transistor
• Implantation de silicium pour nano cristaux
• Traitement anti-buée (mouillage)
• Implantation de prothèse pour biocompatibilité
• Modification de ferroélectriques
