Le EBPG5200Plus de Raith est un outil de lithographie par faisceau d’électrons capable de définir et de positionner des motifs avec une résolution de l’ordre du nanomètre sur de larges surfaces.
• Accélération: 100 keV
• Courant: 100 pA – 350 nA
• Taille des champs d’écriture: jusqu’à 1000 um
• Résolution: < 10 nm – Précision d’alignement < 8nm
• Raccord de champs: < 20 nm pour un champ de 1 mm
• Vitesse du faisceau: 125 MHz
• Résolution de l’adresse: 20 bits
• Porte échantillon disponible:
– Gaufres: 75 mm (3po), 100 mm (4po), 150 mm (6po) et 200 mm (8po).
– Photomasques: 125 mm (5po), 150 mm (6po), 175 mm (7po)
– Pièces: 1 cm et plus
• Ajustement automatique du focus, de la stigmatisation et de la distorsion de champ durant l’écriture
• Plateau intelligent avec précision de positionnement de 0.15 nm et ajustable en hauteur pour les substrats épais/courbés
• CAD acceptant la plupart des formats standards tels GDSII, DXF, etc…
• Correction des effets de proximité
• Cristaux photonique
• Réseau de Bragg
• Prototype de photomasque
• Moule maître pour nano impression
