Rôle de l'appareil
Le pulvérisateur cathodique CMS-18 de K.J. Lesker permet la co-déposition de multi-couches sur divers substrats.
Spécifications techniques
• Source 1 et 2: cible 75 mm avec source AC
• Source 3: cible 75 mm avec source DC
• Porte-échantillon:
- Petite pièces jusqu’aux gaufres de 150 mm
- Rotation jusqu’à 20 rpm
- Polarisation RF ou DC
• Chargement rapide (loadlock)
• Anneau de gaz pour pulvérisation réactive
• Recettes entièrement programmables par ordinateur
Accessoires
• Chauffage du porte-échantillon jusqu’à 850ºC
• Source 4: cathode avec aimant fort pour matériaux magnétiques
• Dispositif d’élimination d’arc électrique pour pulvérisation DC pulsée
• Mesure d’épaisseur par cristal
• Plusieurs cibles disponible: Au, Pt, Cr, Cu, ITO,Al, etc
Exemples de procédés et de services disponibles
• Déposition de couches minces pour miroir diélectrique
• Métallisation de dispositif micro-ondes
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Tarif Académique | Industriel :
67 $/h | 145 $/h
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