[Liste des équipements]
Caractérisation de Nanomatériaux:
- Spectroscope des Photoélectrons émis par Rayons X conventionnels et de haute énergie (XPS-HAXPES), PHI Quantes
- Diffractomètre des rayons X à Haute-Résolution (HR-DRX), Panalytical X-Pert PRO MRD
- Diffractomètre des rayons X (DRX), Panalytical X-Pert PRO MRD
- Diffractomètre des rayons X (DRX), Bruker D8 Advance
Microscopie:
- Microscope Électronique en Transmission Dynamique (METD), Jeol JEM-2100 Plus
- Microscope Électronique en Transmission Ultrarapide (METU), Jeol JEM-2100 Plus
- Faisceau d’Ions Focalisé intégré avec un Microscopie Électronique à Balayage (FIB/MEB), Tescan LYRA 3 XMH
- Microscope à Balayage de Sonde (AFM / STM), Veeco Multimode (Digital Instruments)
- Microscope à Force Atomique (AFM), Veeco Enviroscope (Digital Instruments)
- Microscope à Balayage de Sonde (AFM / STM) travaillant sous ultravide, Jeol 4500 UHV AFM/STM
- Microscope à Balayage de Sonde (AFM / STM) travaillant sous ultravide, Omicron Nanotechnology VT UHV STM / AFM
- Microscope à Force Atomique (AFM), XE-150 (Park Systems)
- Microscopie Électronique à Balayage (MEB), Tescan Vega3 LMH
- Microscope Électronique à Balayage (MEB), Jeol JSM-7401F
- Microscope Optique, Nikon Eclipse L200
- Profilomètre, Ambios XP2
Nanodispositifs - caractérisation optique:
- Caractérisation Électro-optique de matériaux
- Caractérisation et mise en forme d’impulsions optiques
- Caractérisations linéaires et non-linéaires de dispositifs nanophotoniques
- Ellipsomètre, J.A. Woolam M-2000
- Ellipsomètre, J.A. Woolam VVASE
- Mesure de couplage par prisme, Metricon 2010/M
Nanodispositifs - caractérisation électrique:
- Wire-bonder, KS4523
- Probe Station, Alessi 4500
- Probe Station, Cascades Summit 11000
